Главная arrow Скорость осаждения хрома при равномерном покрытии

Скорость осаждения хрома при равномерном покрытии

Скорость наращивания хрома определяется для участка с наименьшей плотностью тока. Чем неравномернее распределяется ток по хромируемой поверхности, тем меньше фактическая скорость осаждения хрома относительно рассчитанной по средней плотности тока. Поэтому улучшение равномерности распределения тока указанными выше приемами является Важным резервом повышения производительности хромировочных ванн,

Скорость осаждения хрома при равномерном покрытии может быть подсчитана по следующей формуле!

Р = 0,047Dktj,

где Р — скорость наращивания хрома, мкм/ч; DK — катодная плотность тока, А/дм2; ц — выход хрома по току* %.    , .    /

Продолжительное хромирования определяется по табл. 3 или рассчитывается по формуле

т = 12756/(Z)kT}),

где % — продолжительность хромирования, мин; Ъ — толщина слоя, .мкм.

В табл. 3 приведена зависимость продолжительности > хромирования (мин) от толщины слоя и плотности тока при выходах по току 13 и 17,5%, характерных для универсального и саморегулирующегося электролитов,

Плотность тока на катоде не всегда определяет производительность ванны. Действительно, при увеличенной плотности тока процесс хромирования ускоряется, но соответственно этому уменьшается загрузка деталей в ванну, если при нормальной и увеличенной плотности тока источник питания загружен полностью. В этом случае повышение плотности тока эффективно, если по производственным соображениям (устранение аварии и т. п.) необходимо как можно скорее произвести хромирование детали.