Главная arrow Процесс удаления с деталей относительно тонкого слоя окислов

Процесс удаления с деталей относительно тонкого слоя окислов

ХИМИЧЕСКОЕ АКТИВИРОВАНИЕ И ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЕ АКТИВИРОВАНИЕ С ПАССИВИРОВАНИЕМ

На поверхности почти всякого Met алла всегда имеется слой окислов. Особенно легко и быстро он образуется на поверхности металла, не защищенного от контакта с кислородом воздуха слоем жира, минерального масла или другого вещества, слабо проницаемого для воздуха. Слой окисла мешает прочному сцеплению металла покрытия с основным металлом детали, поэтому перед покрытием окисный слой должен быть удален. Обычно его удаляют обработкой обезжиренной детали слабым раствором кислоты. В более редких случаях окислы растворяют цианистыми солями (например, на меди и ее сплавах) или более сложными способами, как на алюминии.

Процесс удаления с деталей относительно тонкого слоя окислов называется активированием. Оно может производиться химическими или электрохимическими методами.

Химическое активирование

Медь и ее сплавы. Медь, латунь, томпак и бронза не очень хорошо активируются серной кислотой, немного лучшие результаты дает соляная кислота, но действие и той и другой не очень надежно, ибо обе кислоты хотя и растворяют окислы меди, но медленно.

Хорошо активируют медь и ее сплавы цианистые соли. Однако многие гальванические цехи избегают работы с цианистыми солями, как вследствие их ядовитости, так и из-за сложности очистки сточных вод от цианистых солей и ряда других организационных затруднений.

В порядке эксперимента было опробовано активирование меди раствором следующего состава (г/л):

Хромовый ангидрид ............ 100

Сернокислый аммоний ........... 40

Продолжительность активирования порядка 5с — раствор интенсивно растворяет не только окислы, но и самую медь, поэтому продолжительность процесса надо уточнить опытным путем. Активирование в экспериментальных условиях получалось хорошее. Возможно, что окажется рациональным несколько уменьшить концентрацию раствора против указанной выше.