Главная arrow Микрошероховатость гальванических покрытий

Микрошероховатость гальванических покрытий

Микрошероховатость покрытия

Микрошероховатость гальванических покрытий, осажденных на гладкую поверхность катода, вызывается неоднородным ростом кристаллов в процессе электроосаждения и неодинаковыми условиями массопереноса разряжающихся ионов из глубины электролита к различным точкам микрорельефа поверхности. Помимо того, в условиях концентрационных ограничений возникают волнистые неровности, соизмеримые по амплитуде с толщиной покрытия. Как правило, с ростом толщины гальванических покрытий шероховатость поверхности возрастает. Исключение составляют электролиты, обладающие выравнивающими свойствами.

Шероховатость поверхности оказывает заметное влияние на коррозионную стойкость покрытий. Пониженные защитные свойства шероховатых покрытий отчасти связаны с пониженной толщиной покрытия в углублениях микрорельефа и соответственно повышенной пористостью. Повышение шероховатости покрытия, как правило, протекает с усилением структурной неоднородности, вызывающим возрастание скорости коррозии. Повышению интенсивности коррозии может способствовать также накопление продуктов кор'розии в глубине микрорельефа.

Шероховатость покрытий оказывает влияние на их износостойкость. При сухом трении износостойкость возрастает с уменьшением шероховатости. При полусухом трении минимальный износ наблюдался при некоторой оптимальной величине микрошероховатости при RB = 0,3...0,6 мкм. С повышением шероховатости уменьшается также усталостная прочность основного металла. Снижение шероховатости приводит к уменьшению переходного электрического сопротивления. Особенно сказывается микрошероховатость на качестве передачи высокочастотных электрических сигналов.

Для измерения микрошероховатости применяют щуповые профило-метры-профилографы типа «Калибр», микроинтерферометры МИИ-4 и МИИ-9, двойной микроскоп МИС-11.