Главная arrow Образование мелкокристаллической структуры осадка

Образование мелкокристаллической структуры осадка

Образовавшиеся в результате диссоциации комплексов «простые» ионы непосредственно разряжаются на катоде, например:

Образование мелкокристаллической структуры осадка в этом случае связано с очень малой концентрацией разряжающихся «простых» ионов в прикатодной зоне. По мере разряда простых ионов в прикатодной зоне.
Происходит диссоциация комплекса, благодаря которой восстанавливается их первоначальная концентрация, что препятствует образованию дендри-тов и губчатых осадков. При малых константах нестойкости 10~1в... 10~20 концентрация «простых» ионов исчезающе мала. Осаждение металла в этом случае протекает путем непосредственного разряда комплексных ионов, например:

Разряд анионов облегчается при накоплении посторонних катионов в диффузном слое, уменьшающих силы отталкивания и соответственно катодную поляризацию. Особенно сказывается влияние поливалентных катионов.

При непосредственном разряде комплексного иона, например иона [Cu(CN)4P~, потенциал катода можно рассчитать по формуле

где z — число электронов, принимающих участие в реакции разряда; Дсрп — перенапряжение; <р0 — константа.
Из уравнения (III, 1) видно, что с ростом концентрации комплексообразователей потенциал катода принимает более отрицательное, а с ростом концентрации осаждаемого металла — более положительное значение.

С ростом плотности тока в прикатодной зоне уменьшается концентрация разряжающегося комплекса [Cu(CN)4]3~ и возрастает концентрация комплексообразователя, что приводит обычно к заметному сдвигу потенциала в область более отрицательных значений.