Главная arrow Дисперсность осаждаемого покрытия

Дисперсность осаждаемого покрытия

Дисперсность осаждаемого покрытия однозначно не определяет его качество. Очень важно, чтобы образовавшиеся на поверхности покрываемого металла кристаллы росли слитно и компактно, а не в виде одиночных островков, вырождающихся обычно в иглы или дендриты, или в виде беспорядочного губчатого образования кристаллов (состоящего обычно из микро-дендритов). При нормальном росте осадка происходит срастание маленьких групп кристаллов, образуется конгломерат кристаллитов. Группы кристаллов распространяются и вдоль поверхности, сращиваясь и при этом образуя сплошной осадок.

Введение поверхностно-активных веществ и коллоидов или образование их в прикатодном слое при электролизе способствует образованию мелкокристаллических осадков.

Совместное выделение металла и водорода. Выделение большинства металлов, таких как цинк, никель, олово, железо, кадмий, протекает при потенциалах, более отрицательных, чем потенциал водородного равновесного электрода. Однако разряд и выделение водорода сопровождаются значительным перенапряжением, что позволяет осуществлять выделение олова, никеля, цинка, железа и других металлов с высокими выходами по току [2; 46].

Перенапряжение водорода находится в линейной зависимости от логарифма плотности тока в соответствии с уравнением (11,46).

Данные о величинах констант а и b этого уравнения при выделении водорода на различных металлах приведены в табл. 12 [35].

Минимальное перенапряжение водорода на железе почти в два раза меньше, чем перенапряжение на хроме. При плотности тока 0,3 А/дм2 перенапряжение водорода на железе составляет 0,485 В, а на хроме — 0,75 В.