Главная arrow Сглаживание микрошероховатостей поверхности

Сглаживание микрошероховатостей поверхности

Для этого необходимо, чтобы скорости электрохимического процесса формирования пленки и химического процесса ее растворения были не только близки, но чтобы и скорости обоих процессов были высокими. Известно, что процессы электрохимического полирования протекают в весьма агрессивных средах при высоких значениях потенциала и плотности тока. Это подтверждает указанные соображения о механизме процесса. Образование на аноде пассивирующей пленки приводит к повышению электрохимической однородности поверхности металла, так как преимущественное растворение происходит на участках химических, структурных и микрогеометрических неоднородностей, где пассивирующий слой менее совершенен, благодаря чему повышается блеск поверхности металла.

Сглаживание микрошероховатостей поверхности при анодном полировании также связано с наличием на металле пассивирующей пленки, если шероховатости эти минимальны и находятся на уровне субмикрорельефа. Сглаживание шероховатости поверхности определяется, в основном, количеством электричества, пропущенного через электролит, и следовательно, количественными изменениями в прианодном слое. Помимо этого в ходе электролиза наблюдается уменьшение высоты микровыступов и округление их вершин с переходом к волнообразному микрорельефу. В этом случае сглаживание шероховатостей при электрохимическом полировании вызывается неравномерностью вторичного распределения тока по микрорельефу поверхности и концентрационными изменениями в прианодном слое электролита.

С учетом указанных представлений о механизме электрохимического полирования можно рассматривать и вопрос о составе электролитов на примере обработки меди. В растворе фосфефной кислоты блеск поверхности меди достигается в очень узком диапазоне плотностей тока и потенциалах, близких началу выделения кислорода. При большой плотности тока, хотя поверхность металла и получается блестящей, на ней образуются мелкие точечные углубления, напоминающие питтинг.