Главная arrow Жидкие фоторезисты

Жидкие фоторезисты

Жидкие фоторезисты. Наибольшее распространение в промышленности получил фоторезист на основе поливинилового спирта (ПВС), состав (г/л) которого следующий:

Поливиниловый спирт (сухой) ......... 70 - 120

Двухромовокислый аммоний (NH4)2Cr207 ...... 8—10

Спирт этиловый С2Н5ОН . .........................100—120

Фоторезист приготавливается следующим образом. Навеску сухого порошка ПВС замачивают в дистиллированной воде на одни сутки. Затем на водяной бане при температуре 98° С растворяют ПВС в течение 4—б ч при непрерывном перемешивании. Двухромовокислый аммоний растворяют в отдельной порции дистиллированной воды, куда вливают этиловый спирт в соответствии с расчетом. Полученный раствор соединяют с раствором ПВС и доводят объем дистиллированной водой до рабочего уровня.

Жидкие фоторезисты могут наноситься на поверхность плат различными способами: окунанием (преимущественно для ФПП), поливом с последующим центрифугированием, накатыванием с помощью валиков, пульверизацией, электростатическим распылением.

Метода окунания и полив с последующим центрифугированием не пригодны для нанесения фоторезистов на заготовки плат с отверстиями, так как из зоны отверстий они вытекают, и этими способами не удается достигнуть равномерности слоя фоторезиста по толщине. Методы окунания и полива пригодны в условиях опытного производства, когда операцию сверления можно производить после фотопечати.

Методы накатывания фоторезиста и электростатического распыления пригодны для использования их на заготовках с досверленными отверстиями, однако они более сложны и требуют применения специального оборудования.